Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.

Nombre

Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.

NIF/CIF

Q2818002D

DIR3

EA0020951

Ubicación

c/ Serrano 117, Madrid, 28006

Localidad

Barcelona

Contacto

Presidencia de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas, M.P.

Email

soia@csic.es

Teléfono

915681781

Org. superior

Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas > Secretaría General de Investigación > Ministerio de Ciencia, Innovación y Universidades > ADMINISTRACIÓN GENERAL DEL ESTADO > Sector Público

Presupuesto base (sin IVA)

680.000,00 €

Presupuesto con IVA

822.800,00 €

Importe de adjudicación

679.990,00 €

Ofertas recibidas

2

Porcentaje de garantía

5%

Tipo de contrato

Suministros

Procedimiento

Abierto

CPV principal

38341000

Ubicación (NUTS)

Barcelona (ES511)

Subtipo

2

Forma de presentación

Electrónica

Sistema de contratación

Código de origen: 0

Urgencia

Ordinaria

Plazo de presentación

03/03/2025 · confirma la hora en la fuente oficial

Disponibilidad de docs.

No indicada

Duración estimada

16 meses

Inicio previsto

No indicada

Fin previsto

No indicada

Fecha de publicación

30/01/2025

Última actualización

28/05/2025, 08:05

Garantía

5%

Programa de financiación

Unión Europea NextGenerationEU Mecanismo Recuperación y Resiliencia, y PERTE Chip. ICTS-MRR-2023-04-CSIC Código proyecto científico MICRONANOFABS Fase 2 MICRO23001 Componente C17 Medida I2 CID 260

Idioma

es

Variantes permitidas

No